Envasado a nivel de placa

Reflujo de precisión para las exigencias del encapsulado a nivel de placa

reflujo para encapsulados a nivel de panel

Los hornos BTU están diseñados para satisfacer las exigentes necesidades del encapsulado a nivel de placa, donde la calidad de las interconexiones y la repetibilidad del proceso determinan el rendimiento.

El encapsulado a nivel de panel (PLP) está redefiniendo la rentabilidad de la fabricación avanzada de semiconductores, pero plantea exigencias extraordinarias al proceso de reflujo. La formación de protuberancias en las obleas y el reflujo para la fijación de bolas son pasos fundamentales en el PLP, que influyen directamente en la calidad de las interconexiones y la fiabilidad de los dispositivos de alta densidad.

Los retos son considerables: los paneles de hasta 700 mm x 700 mm deben procesarse con una distribución uniforme de la temperatura para mantener una forma y un tamaño uniformes de los bultos en todo el sustrato. La discrepancia en el coeficiente de expansión térmica (CTE) entre materiales diferentes conlleva el riesgo de deformación y tensión térmica. Además, es esencial controlar con precisión la velocidad de calentamiento, la temperatura máxima y el tiempo por encima del punto de fusión para lograr una fusión completa de la soldadura sin comprometer la planitud ni la uniformidad de los bultos.

BTUPyramax y Aurorade BTU están diseñados específicamente para cumplir estos requisitos, proporcionando la uniformidad térmica, el control de la atmósfera y la precisión de calentamiento y enfriamiento que exigen los procesos PLP.

Formato de oblea redonda frente a formato de panel rectangular
Formato de oblea redonda frente a formato de panel rectangular

Características principales del encapsulado a nivel de placa

  • Thermal Uniformity <4°C Across Panel Width

    Las altas tasas de convección y el impacto optimizado proporcionan un delta T constante en paneles de hasta 700 mm x 700 mm, lo que garantiza una formación uniforme de protuberancias y un alto Cpk del proceso.

  • Velocidades controladas de calentamiento y enfriamiento

    Las velocidades de calentamiento programables y la convección controlada minimizan los gradientes térmicos y los micropicos de dT/dt, lo que protege contra la deformación, la delaminación y las microfisuras provocadas por la incompatibilidad del coeficiente de expansión térmica (CTE).

  • TrueFlat : eliminación de TrueFlat

    Vacuum mantiene la planitud del sustrato durante todo el ciclo de reflujo. Diseñado específicamente para sustratos de paneles ultrafinos, en los que la deformación afecta directamente al rendimiento de los bultos.

  • Compatibilidad con atmósferas inertes y reductoras

    Control de O₂ con precisión de un solo dígito en ppm en entornos de N₂, además de compatibilidad con gas de formación y ácido fórmico para el reflujo sin fundente, con supervisión completa de fugas y controles de seguridad.

  • Repetibilidad entre hornos

    El control de convección en bucle cerrado y la calibración adaptada permiten que una misma receta se ejecute de forma fiable en múltiples BTU de todo el mundo, lo cual es esencial para la producción de PLP a gran escala en las fábricas de todo el mundo.

  • Flexibilidad del tipo de perfil

    Compatibilidad con los perfiles de temperatura «Ramp-Soak-Spike» (RSS/Step) y «Lazy S», lo que permite adaptarse a diversos requisitos de aleaciones de soldadura y a disposiciones de componentes con diferentes masas térmicas.

Uniformidad térmica en paneles de gran formato

A medida que el tamaño de los paneles se acerca a los 700 mm x 700 mm y más allá, resulta cada vez más crucial mantener una distribución uniforme de la temperatura a lo largo de todo el ancho de la cinta transportadora. Un calentamiento desigual provoca irregularidades en la forma y el tamaño de las protuberancias y, en el peor de los casos, juntas frías localizadas o sobrecalentamiento en los bordes de los paneles.

Las elevadas tasas de convección BTUy su tecnología de impacto optimizada proporcionan un delta T muy reducido en todo el ancho del panel, lo que garantiza que cada protuberancia alcance la temperatura de reflujo objetivo al mismo tiempo. Nuestra especificación de uniformidad, inferior a 4 °C en todo el panel, permite alcanzar los valores de Cpk que exige la producción de PLP de alto rendimiento.

La repetibilidad entre hornos BTU—gracias al control de convección en bucle cerrado, a una calibración constante y a un sistema de extracción adaptado— permite que una misma receta se ejecute de forma fiable en múltiples sistemas de todo el mundo.

Control de la deformación y mitigación de la discrepancia en el coeficiente de expansión térmica

Los encapsulados a nivel de panel integran diversos materiales —chips de silicio, sustratos orgánicos, compuestos de relleno— cada uno con un coeficiente de expansión térmica diferente. Los cambios bruscos de temperatura provocan una contracción diferencial que da lugar a deformaciones, delaminación y microfisuras en las interfaces.

BTU ofrecen un control preciso y programable tanto de las velocidades de calentamiento como de enfriamiento, lo que permite minimizar los gradientes térmicos en cada fase del perfil. Nuestra tecnología de convección controlada reduce los micropicos en el gradiente térmico (dT/dt), lo que proporciona transiciones más suaves que protegen la integridad mecánica de todo el panel.

En el caso de sustratos ultrafinos, en los que la deformación es uno de los principales factores que afectan al rendimiento, el Pyramax TrueFlat vacuum uniforme durante todo el proceso de reflujo para mantener la planitud, incluso a las temperaturas necesarias para que la soldadura se reflua por completo.

Control de la atmósfera: entornos inertes y reductores

La oxidación es un problema constante en el proceso de reflujo de PLP. Las superficies expuestas de cobre y soldadura comienzan a oxidarse a temperatura ambiente, y este proceso se acelera considerablemente con el calor. En las interconexiones de paso fino, incluso una oxidación mínima degrada la soldabilidad, reduce la humectabilidad y compromete la fiabilidad de las uniones.

BTU admiten múltiples estrategias de atmósfera para aplicaciones de PLP:

  • Atmósfera inerte (N₂) con un control del O₂ de un solo dígito en ppm en toda la cámara de calentamiento, no solo en la zona de reflujo
  • Gas de formación (H₂) para procesos de soldadura por puntos a alta temperatura que requieren reflujo sin fundente, con control de fugas y explosiones hasta un 96 % de H₂
  • Atmósfera de ácido fórmico, activa entre 150 y 190 °C, para un procesamiento sin fundente con monitorización integrada de fugas y control de O₂ en ppm

Configuración del horno adaptada al proceso y al rendimiento

La elección de la configuración adecuada del horno para PLP depende, en primer lugar, de los requisitos del perfil térmico y de los objetivos de producción. La longitud calentada, el número de zonas y la velocidad de la cinta transportadora son factores que, en conjunto, determinan si lo más adecuado para la aplicación es un horno de una o dos vías, y qué plataforma elegir.

BTUPyramax y Aurora ofrecen una arquitectura de zonas configurable en una amplia gama de longitudes de calentamiento, lo que permite a los ingenieros de procesos adaptar el horno a los requisitos específicos de tiempo de perfil de su proceso PLP, al tiempo que se cumplen los objetivos de rendimiento. Las configuraciones de doble carril pueden duplicar eficazmente la producción utilizando una longitud de calentamiento más corta.

Los ingenieros de aplicaciones BTUcolaboran directamente con los clientes para adaptar los requisitos de los perfiles a las configuraciones de los hornos, garantizando así que todo encaja a la perfección antes de realizar la inversión.

Consulte a los ingenieros de aplicaciones BTUsobre soluciones de reflujo diseñadas específicamente para el encapsulado a nivel de panel de alto rendimiento.

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